モデルの作成

CADFEKOでモデルを作成します。このモデルに必要なポートと給電源をすべて定義します。このモデルの動作周波数または動作周波数範囲を指定します。

  1. モデルの寸法単位をミリメートルに設定します。
  2. 次の変数を定義します:
    • shielding_height = 11.4(シールドボックスの高さ)
    • substrate_height = 1.57(基板の高さ)
    • epsr = 2.33(相対誘電率)
    • gnd_length = 92(基板の長さと幅)
    • port_offset = 0.5(給電点のオフセット位置)
    • strip_width = 4.6(マイクロストリップ部分の幅)
    • strip_offset = 23(グランドのエッジからマイクロストリップが占めるオフセット)
    • fmin = 1.5e9(最小計算周波数)
    • fmax = 4e9(最大計算周波数)
    • stub_length = 18.4(スタブの長さ)
    • stub_offset = 41.4(グランドのエッジからスタブまでの距離)
  3. 誘電体媒質を作成します。
      • Labelair
      • Relative permittivity1
      • Labelsubstrate
      • Relative permittivityepsr
  4. 基板層を作成します。
    1. 立方体を作成します。
      • Base corner (C)(0, 0, 0)
      • Width (W)gnd_length
      • Depth (D)gnd_length
      • Heigth (H)substrate_height
      • Labelsubstrate
  5. シールドボックスを作成します。
    1. 立方体を作成します。
      • Base corner (C)(0, 0, 0)
      • Width (W)gnd_length
      • Depth (D)gnd_length
      • Heigth (H)shielding_height
      • Labelshielding_box
  6. マイクロストリップを作成します。
    1. 立方体を作成します。
      • Base corner (C): (port_offset, strip_offset, 0)
      • Width (W): gnd_length-port_offset*2
      • Depth (D)strip_width
      • Heigth (H)substrate_height
      • Labelmicrostrip
      Note: 立方体が作成され、これによって下面フェイスが接地面(shielding_boxの下面フェイス)と一致します。ポリゴンまたは長方形を使用してマイクロストリップを作成することもできます。
  7. microstripパートの垂直フェイスをすべて削除します。
  8. スタブを作成します。
    1. ラインを作成します。
      • Start point: (stub_offset, strip_offset+strip_width, substrate_height)
      • End point: (stub_offset+strip_width, strip_offset+strip_width, substrate_height)
      • Labelleading_edge
    2. このラインをスイープします。
      • Start point(0, 0, 0)
      • End point(0, stub_length, 0)
    3. このスイープの名前をstubに変更します。
  9. 給電セグメントを作成します。
    1. 1番目のラインを作成します。
      • Start point: (0, strip_offset+strip_width/2, substrate_height)
      • End point(port_offset, strip_offset+strip_width/2, substrate_height)
      • Labelfeed1
    2. 2番目のラインを作成します。
      • Start point(gnd_length-port_offset, strip_offset+strip_width/2, substrate_height)
      • End point(gnd_length, strip_offset+strip_width/2, substrate_height)
      • Labelfeed2
  10. すべてのパートを結合して、その結合の名前をshielded_filterに変更します。
  11. 立方体のRegionsubstrateに設定します。
  12. 基板の上にあるRegionairに設定します。
  13. すべての領域に対する解法をFEMに設定します。
    Tip: Region propertiesダイアログを開いてSolutionタブをクリックします。Solution methodリストから、Finite Element Method (FEM)を選択します。
  14. 基板の表面(substrate_heightの高さにある誘電体フェイス)を除き、すべてのフェイスの特性をPECに設定します。
  15. 周波数を設定します。
    • Continuous interpolated range
    • Start frequency (Hz)fmin
    • End frequency (Hz)fmax
  16. 給電線ごとに1つ、合計で2つのFEMラインポートを追加します。
    Tip: Source/LoadタブからFEM line portを選択し、Specify port as an edgeオプションを使用して3Dビューから給電ラインをクリックします。


    Figure 1. 3DビューでFEMラインポートの1つを拡大した図