Supplied conductorsアプリケーション: ポスト処理する量

解析プロセス: 留意事項

Supplied conductorsアプリケーションの場合、解析プロセスは次の表に示すように2つのステップが必要となります。

PEEC計算(アプリケーションには無関係)
導体の各要素の抵抗および部分自己インダクタンス(R、L)の計算

導体のすべての並列要素間の部分相互インダクタンス(M)の計算

電流の計算
電気方程式の求解 ⇒ 各要素での電流の値
ポスト処理
磁束密度、ジュール損失、ラプラス力など

局所量

計算により求められる局所量を次の表に示します。

単位 説明
導体内の電流密度: 複素ベクトル A/m2  
磁束密度: 複素ベクトル T 解析的(または半解析的):ビオ・サバール
導体での電力損失密度(ジュール効果による): dP 実スカラー W/m3
ラプラス力密度:平均成分 実ベクトル N/m3
ラプラス力密度:脈動成分 複素ベクトル N/m3

全体量

計算により求められる全体量を次の表に示します。

単位 説明
導体を流れる総電流: 複素スカラー A
導体での電力損失(ジュール効果による損失)P 実スカラー W
導体上のラプラス力:平均成分 実ベクトル N
導体上のラプラス力:脈動成分 複素ベクトル N