記述プロセス

概要

時間依存のスタディ / パラメトリック解析は、“従来の”スタディと同様に表示されます。

形状構築、メッシュ、物理特性、解析プロセス、結果のポスト処理など、さまざまなモジュールで、補足ステージがメインステージに挿入されます。

時間依存スタディのさまざまな定義ステージを次の表に示します。

これは、記述プロセスを簡単にまとめたもので、時間依存スタディが分離（個別化）されています。最も一般的なケースは、個別に取得されたこれらのさまざまなスタディの組み合わせです。

ステージ	説明
0	パラメータTIMEの自動作成
1	時間の関数での可変量の定義
	TIMEパラメータによる	I/Oパラメータによる
	パラメータTIMEを直接使用	時間の関数でのI/Oパラメータ（式またはテーブル）の作成このパラメータの使用
2	センサーの作成（さまざまなサポートでの量の評価用など）
3	解析プロセスを制御するシナリオの作成（I/Oパラメータの変化の定義）
4	解析プロセスステージ3で準備したシナリオを使用
5	結果のポスト処理ステージ3で準備したシナリオ（§ 結果のポスト処理をご参照ください）。

注: * センサーが解析プロセスの前に作成されなかった場合は、その後のポスト処理コンテキスト内で作成および評価することができます。

パラメトリック解析のさまざまな定義ステージを次の表に示します。

これは、記述プロセスを簡単にまとめたもので、形状と物理特性のパラメータ化解析が分離（個別化）されています。最も一般的なケースは、個別に取得されたこれらのさまざまなスタディの組み合わせです。

ステージ	説明
1	I/Oパラメータの作成 / 使用
	状況	操作
	パラメトリック形状スタディ
	パラメトリック物理特性スタディ	制御可能なI/Oパラメータの作成このパラメータの使用
2	センサーの作成（さまざまなサポートでの量の評価用など）
3	解析プロセスを制御するシナリオの作成（I/Oパラメータの変化の定義）
4	解析プロセスステージ3で準備したシナリオを使用
5	結果のポスト処理ステージ3で準備したシナリオ（§ 結果のポスト処理をご参照ください）。

注: * センサーが解析プロセスの前に作成されなかった場合は、その後のポスト処理コンテキスト内で作成および評価することができます。