解析プロセス(シナリオによる)
解析プロセス
最後のステージは問題解析プロセスです。
解析プロセスは選択された計算タイプによって異なり、下の表に示すように、2つステージがあります。
PEEC計算(選択したアプリケーションには無関係) |
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導体メッシュの各要素の抵抗および部分自己インダクタンス(R、L)の計算 導体メッシュのすべての並列要素間の部分相互インダクタンス(M)の計算 |
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周波数に依存しない結果 |
Supplied conductorsアプリケーション | Conductors impedanceアプリケーション |
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電気方程式の求解 ⇒ 各要素での電流の値 | 回路図の削減 ⇒ インピーダンスプローブのレベルでの等価インピーダンスの値 |
周波数に依存する結果 | 周波数に依存する結果 |
シナリオの概念
解析プロセスの進捗は、シナリオを介してソフトウェアで設定されます。シナリオは、Flux PEEC解析プロセスが実行される周波数の範囲を定義します。
シナリオは、モノ周波数(単一周波数)または多周波数(複数周波数)にできます。2つ目のケースでは、考慮する周波数の範囲が複数の間隔に分割されます。この定義を以降のブロックで説明します。
間隔の概念
周波数の間隔は、下限finfと上限fsupの間の一連の値です。また、これらの値は、数学的法則によって特定できます。
Flux PEECでは、2つ目の間隔の下限と1つ目の間隔の上限が一致する必要があるという意味で、連続する2つの間隔が隣接している必要があります。
下の表に示すように、周波数の範囲を記述する方法は複数あります。
モード | 記述のパラメータ |
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ステップ値 | 端点[finf, fsup]間の一定のステップΔf |
ステップ数(lin) |
端点[finf, fsup]間の線形変化のステップ数 |
ステップ数(log) |
端点[finf, fsup]間の対数変化のステップ数 |
値のリスト |
端点[finf, fsup]間の値のユーザー定義リスト |