解析プロセス(シナリオによる)

解析プロセス

最後のステージは問題解析プロセスです。

解析プロセスは選択された計算タイプによって異なり、下の表に示すように、2つステージがあります。

PEEC計算(選択したアプリケーションには無関係)

導体メッシュの各要素の抵抗および部分自己インダクタンス(R、L)の計算

導体メッシュのすべての並列要素間の部分相互インダクタンス(M)の計算

周波数に依存しない結果
Supplied conductorsアプリケーション Conductors impedanceアプリケーション
電気方程式の求解 ⇒ 各要素での電流の値 回路図の削減 ⇒ インピーダンスプローブのレベルでの等価インピーダンスの値
周波数に依存する結果 周波数に依存する結果

シナリオの概念

解析プロセスの進捗は、シナリオを介してソフトウェアで設定されます。シナリオは、Flux PEEC解析プロセスが実行される周波数の範囲を定義します。

シナリオは、モノ周波数(単一周波数)または多周波数(複数周波数)にできます。2つ目のケースでは、考慮する周波数の範囲が複数の間隔に分割されます。この定義を以降のブロックで説明します。

間隔の概念

周波数の間隔は、下限finfと上限fsupの間の一連の値です。また、これらの値は、数学的法則によって特定できます。

Flux PEECでは、2つ目の間隔の下限と1つ目の間隔の上限が一致する必要があるという意味で、連続する2つの間隔が隣接している必要があります。

下の表に示すように、周波数の範囲を記述する方法は複数あります。

モード 記述のパラメータ
ステップ値 端点[finf, fsup]間の一定のステップΔf
ステップ数(lin)

端点[finf, fsup]間の線形変化のステップ数

ステップ数(log)

端点[finf, fsup]間の対数変化のステップ数

値のリスト

端点[finf, fsup]間の値のユーザー定義リスト